光刻机的工作原理和分类

光刻机的工作原理和分类

一、工作原理光刻机的工作原理可以分为四个步骤

1.制作掩膜掩膜是一个光学图形，通过光刻机传输到芯片上，以形成电路和器件掩膜一般制作于光刻胶片或硅片上

2.选择光刻胶片光刻胶片是不同严谨度要求下的喷码打印介质，它可以在接受光刻束下将图形转化为阴影图形光刻胶片的类型主要由所需要制造的芯片的要求和掩膜的要求决定在加载光刻胶片时，需要根据掩膜的要求选择适当的光刻胶片

3.暴光在暴光的步骤中，光刻机通过将光学图形从掩膜上传到光刻胶片上光刻胶片会将暴露在光线下的部分化学交叉反应，形成一定的刻蚀图形

4.刻蚀在最后一步刻蚀的时刻，已经转换为图形的光刻胶片被移到芯片基板上在基板上，刻蚀剂会将胶片中未暴露出来的部分刻蚀掉，并形成一个图形

二、分类光刻机的分类主要基于两个因素光源和分辨率

1、光源目前，光刻机主要分为三大类

①黑白光刻机黑白光刻机采用了紫外线光源，同时也可以由激光器或者其他光源进行操作这一类型的光刻机仅能处理单层图形，只有黑色和白色两种颜色，制造效率低、对比度不足，已经逐渐被基于钙钛矿半导体材料的可刻蚀电子束光刻机替代

②TFT-LCD光刻机TFT-LCD光刻机是一种适合于大规模生产液晶显示器的设备，主要采用了有机硅光晕镜头对基板进行物理捕捉、减少镜头对基板的影响和缺陷的设备它采用紫外线光源，能够实现高阶多层图形制造，但是其成本较高

③DRC光刻机DRC光刻机采用了紫外线激光光源和低阻抗视野放大技术（LLD），用于制造微细电子元器件它最大的特点是快速刷写速度、快速锁定技术、快速切割技术以及高效能

2、分辨率根据分辨率，可将光刻机分为数码光刻机、光刻微影机、接触式光刻机以及线阵列光刻机等光刻机作为一种高精度图案传输设备，通过将图形从掩膜上传输至芯片基板上来实现芯片制造的过程其主要有三类黑白光刻机、TFT-LCD光刻机和DRC光刻机分类方式也主要集中在两个方面，光源和分辨率随着科技的不断进步，光刻机的应用也越来越广泛第PAGE页共NUMPAGES页。